事关EUV光刻机自由出货时间，外媒给出最新预测
事关EUV光刻机自由出货时间，外媒给出最新预测 ASML正式发布了2021年财报数据，除了靓丽的营收和净利润数据外，ASML还...
ASML正式发布了2021年财报数据，除了靓丽的营收和净利润数据外，ASML还官宣了新款EUV光刻机。
据悉，ASML一次性推出了两款新型EUV光刻机，其NA值均是0.55，相比现有型号的EUV光刻机，其NA明显提升，毕竟，老款EUV光刻机的NA值为0.33。
另外，新款EUV光刻机采用拥有更高的NA值，就意味着其拥有更高的曝光精度，能够进行更小晶圆的生产制造，关键是效率也大幅度提升，每小时曝光晶圆200片以上。
而现有型号的EUV光刻机，其每小时的晶圆曝光量为160片左右。
最主要的是，其中一款新型号的EUV光刻机已经交付给了英特尔，而另外一款也有5套订单了。
也就是说，ASML已经具备了出货更先进EUV光刻机的能力。
事关EUV光刻机自由出货时间，外媒给出最新预测
ASML官宣新款EUV光刻机后，外媒就给出EUV光刻机自由时间的最新预测，2年内现有EUV光刻机可自由出货。外媒如此肯定，也给出了以下几点原因。
首先，EUV光刻机是在2018年开始出现，并在2019年开始大量交付，而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
EUV光刻机出货后，ASML方面就表示，DUV光刻机在一般情况下是可以自由出货的，除了在美生产制造的DUV光刻机。
2021年ASML就实现了DUV光刻机等设备自由出货，并直接与ASML签订了价值11亿美元的采购协议。
也就是说，新一代光刻机出现后，老款光刻机很快就实现了自由出货，DUV光刻机就是例子。如今，新款EUV光刻机已经交付，老款也会在2年内自由出货。
其次，ASML正在加速EUV光刻机普及。
EUV光刻机是生产制造7nm以下芯片的必要设备，再加上，越来越多的储存芯片厂商也开始用EUV工艺。
于是，ASML明确表示要在2025年实现EUV光刻机使用达到60%。
要知道，目前EUV光刻机的出货量不高，2021年仅为42台，占ASML全年光刻机出货量的1/7。
另外，全球还有三家企业可以生产制造光刻机，这意味着ASML要在2025年实现了EUV光刻机的安装使用率高达60%，其必然要实现自由出货。
数据显示，全球EUV光刻机的安装量应该在140台，这样的基数实在太少了，要想实现60%的使用率，自由出货和提升产能是必不可少的。
再加上，中国市场是巨大的，三星、SK海力士都在此有大量的工厂，这些工厂也是需要EUV光刻机。
但由于规则被修改，EUV光刻机不能出货安装到外企中国分厂，这意味着ASML只有实现EUV光刻机自由出货，才能够解决问题。
最后，压力让ASML不得不快速实现EUV光刻机自由出货。
EUV光刻机原先是生产制造7nm以下芯片的必要设备，但如今可不再是唯一设备了。
因为佳能、铠侠科技等联合研发了全新的NIL工艺，目前已经用该工艺量产了15nm的芯片，预计在2025年用NIL工艺量产5nm芯片。
另外，NIL不仅能够降低耗电量，也能够降低设备采购成本，关键是，佳能、铠侠等有意在全球范围内推广该工艺。
还有就是，台积电也明确表示，DUV光刻机可以量产7nm芯片，也可以量产5nm芯片，只不过工艺更复杂一些，成本也高一点。
这两个消息让ASML压力很大，尤其全新的NIL工艺，一旦在全球范围内推广，届时EUV光刻机的市场必然会缩小。
因为NIL工艺相比EUV工艺不仅能节约的电耗成本，还有EUV光刻机成本，这两点就能够大大降低5nm等芯片的生产制造成本。
为了市场，ASML自然要在NIL工艺之前实现EUV光刻机普及，否则，影响就大了。所以才说事关EUV光刻机自由出货时间，外媒给出最新预测。